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Eksma 線性偏振激光束的可變衰減器990-0071

簡(jiǎn)要描述:Eksma 線性偏振激光束的可變衰減器990-0071
該可變衰減器/分束器包括用于偏振片的特殊設(shè)計(jì)的光機(jī)械適配器,其在56°840-0117A或840-0118A以及精密光機(jī)械支架840-0197。

  • 產(chǎn)品品牌:Eksma
  • 廠商性質(zhì):代理商
  • 更新時(shí)間:2024-04-23
  • 訪  問  量:937

詳細(xì)介紹

品牌Eksma價(jià)格區(qū)間面議
組件類別光學(xué)元件應(yīng)用領(lǐng)域醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子,綜合

Eksma 線性偏振激光束的可變衰減器990-0071

Eksma 線性偏振激光束的可變衰減器990-0071

該可變衰減器/分束器包括用于偏振片的特殊設(shè)計(jì)的光機(jī)械適配器,其在56°840-0117A或840-0118A以及精密光機(jī)械支架840-0197。

產(chǎn)品介紹

?將激光束分為兩束手動(dòng)調(diào)節(jié)的強(qiáng)度比,以68°角分開

?大動(dòng)態(tài)范圍

?透射光束偏移?0.5毫米

?高光學(xué)損傷閾值

?透射光束的衰減范圍:0.5%-95%

?反射光束的衰減范圍:5%-99.5%

該可變衰減器/分束器包括用于偏振片的特殊設(shè)計(jì)的光機(jī)械適配器,其在56°840-0117A或840-0118A以及精密光機(jī)械支架840-0197。薄膜布魯斯特型偏振片被容納在56°偏振片適配器中,該偏振片在反射56°的S偏振光同時(shí)透射P偏振光。石英半波片容納在旋轉(zhuǎn)支架840-0197中。

可以通過旋轉(zhuǎn)波片連續(xù)改變這兩個(gè)光束的強(qiáng)度比,而不會(huì)改變其他光束參數(shù)。可以在很寬的動(dòng)態(tài)范圍內(nèi)控制出射光束的強(qiáng)度或其強(qiáng)度比。可以選擇P偏振以獲得較大的透射率,或者當(dāng)透射光束發(fā)生較大衰減時(shí)可以反射高純度s偏振。保持器840-0197允許將薄膜布魯斯特型偏振器的入射角調(diào)整±2°,并獲得較大的偏振對(duì)比度。


注意:實(shí)心基座高度擴(kuò)展器820-0210和標(biāo)準(zhǔn)桿820-0020-20應(yīng)單獨(dú)訂購。

產(chǎn)品型號(hào)

適用于Nd:YAG激光應(yīng)用

型號(hào)

波長

激光損傷閾值

990-0071-355

355 nm

5 J/cm2 @ 1064 nm, 10 ns, 10 Hz

990-0071-532

532 nm

5 J/cm2 @ 1064 nm, 10 ns, 10 Hz

990-0071-1064

1064 nm

5 J/cm2 @ 1064 nm, 10 ns, 10 Hz

飛秒應(yīng)用

型號(hào)

波長

激光損傷閾值

990-0071-257

257 nm

10 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs

990-0071-266

266 nm

10 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs

990-0071-343

343 nm

10 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs

990-0071-400

400 nm

10 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs

990-0071-400B

390-410 nm

10 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs

990-0071-515

515 nm

10 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs

990-0071-515B

505-525 nm

10 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs

990-0071-800

800 nm

10 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs

990-0071-800B

780-820 nm

10 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs

990-0071-1030

1030 nm

10 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs

990-0071-1030B

1010-1050 nm

10 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs

適用于高功率飛秒激光應(yīng)用

型號(hào)

波長

激光損傷閾值

990-0071-257H

257 nm

100 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs

990-0071-266H

266 nm

100 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs

990-0071-343H

343 nm

100 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs

990-0071-400H

400 nm

100 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs

990-0071-400HB

390-410 nm

100 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs

990-0071-515H

515 nm

100 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs

990-0071-515HB

505-525 nm

100 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs

990-0071-800H

800 nm

100 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs

990-0071-800HB

780-820 nm

100 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs

990-0071-1030H

1030 nm

100 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs

990-0071-1030HB

1010-1050 nm

100 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs

適用于Nd:YAG激光應(yīng)用

通光孔徑

10 mm

損害閾值

5 J/cm2
pulsed at 1064 nm, typical

偏振對(duì)比

>1:200


飛秒應(yīng)用

通光孔徑

10 mm

損害閾值

            大功率激光應(yīng)用:

>10 mJ/cm2, 50 fs pulse at 800 nm, typical
>100 mJ/cm2, 50 fs pulse at 800 nm, typical

時(shí)間分散

t<4 fs for 100 fs Ti:Sapphire laser pulses

偏振對(duì)比

>1:200

EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué),工業(yè),醫(yī)學(xué),美學(xué),軍事和航空航天市場(chǎng)的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用,激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,光機(jī)械,帶驅(qū)動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商,它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項(xiàng)業(yè)務(wù),其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長期專業(yè)知識(shí)。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實(shí)驗(yàn)室的高質(zhì)量測(cè)試和認(rèn)證。 通過嚴(yán)格的檢查程序,質(zhì)量控制評(píng)估以及對(duì)新技術(shù)的承諾,我們不斷改進(jìn)并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認(rèn)證。 必維檢驗(yàn)集團(tuán)(Bureau Veritas)頒發(fā)的認(rèn)證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設(shè)備和擴(kuò)展制造能力。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割,研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。


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