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簡要描述：Eksma 防反射鍍膜這些多層抗反射鍍膜設計用于將一個非常特定的波長的組件的反射率降低到接近零。因此，寶貴的激光能量可以通過復雜的光學系統(tǒng)有效透射，而不會因為眩光和散射而丟失。我們的抗反射（AR）鍍膜旨在按正常入射使用，以這種方式使用時將實現(xiàn)較大的效率透射。
產(chǎn)品品牌：Eksma廠商性質(zhì)：代理商更新時間：2021-03-22訪 問 量：940相關(guān)文章
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| 品牌 | Eksma | 價格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 組件類別 | 光學元件 | 應用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子,綜合 |
Eksma 防反射鍍膜
Eksma 防反射鍍膜
這些多層抗反射鍍膜設計用于將一個非常特定的波長的組件的反射率降低到接近零。
產(chǎn)品介紹
這些多層抗反射鍍膜設計用于將一個非常特定的波長的組件的反射率降低到接近零。因此，寶貴的激光能量可以通過復雜的光學系統(tǒng)有效透射，而不會因為眩光和散射而丟失。我們的抗反射（AR）鍍膜旨在按正常入射使用，以這種方式使用時將實現(xiàn)較大的效率透射。
EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學，工業(yè)，醫(yī)學，美學，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體，光機械，帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商，它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項業(yè)務，其基礎是在激光和光學領(lǐng)域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序，質(zhì)量控制評估以及對新技術(shù)的承諾，我們不斷改進并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001：2015認證。 必維檢驗集團（Bureau Veritas）頒發(fā)的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
產(chǎn)品型號
ø25.4 mm光學元件的價格表
激光線抗反射鍍膜
型號 | 基材尺寸 | 波長 | R,%(AOI=0°) | LIDT激光損傷閾值 |
AR266 | ≤ ø 25.4 mm | 266 nm | R<0.4% | 1 J/cm² |
AR343 | ≤ ø 25.4 mm | 333-353 nm | R<0.5% | 3 J/cm² |
AR343HT | ≤ ø 25.4 mm | 333-353 nm | R<0.2% | 4 J/cm² |
AR355 | ≤ ø 25.4 mm | 355 nm | R<0.25% | 3 J/cm² |
AR355HT | ≤ ø 25.4 mm | 355 nm | R<0.2% | 4 J/cm² |
AR400 | ≤ ø 25.4 mm | 380-420 nm | R<0.5% | 3 J/cm² |
AR400HT | ≤ ø 25.4 mm | 380-420 nm | R<0.2% | 4 J/cm² |
AR515 | ≤ ø 25.4 mm | 500-530 nm | R<0.3% | 5 J/cm² |
AR515HT | ≤ ø 25.4 mm | 500-530 nm | R<0.1% | 7 J/cm² |
AR532 | ≤ ø 25.4 mm | 532 nm | R<0.2% | 5 J/cm² |
AR532HT | ≤ ø 25.4 mm | 532 nm | R<0.1% | 7 J/cm² |
AR800 | ≤ ø 25.4 mm | 760-840 nm | R<0.4% | 8 J/cm² |
AR800HT | ≤ ø 25.4 mm | 760-840 nm | R<0.1% | 10 J/cm² |
AR1030 | ≤ ø 25.4 mm | 1000-1060 nm | R<0.3% | 10 J/cm² |
AR1030HT | ≤ ø 25.4 mm | 1000-1060 nm | R<0.1% | 15 J/cm² |
AR1064 | ≤ ø 25.4 mm | 1064 nm | R<0.2% | 10 J/cm² |
AR1064HT | ≤ ø 25.4 mm | 1064 nm | R<0.1% | 15 J/cm² |
雙波段抗反射鍍膜
型號 | 基材尺寸 | 波長 | R, %(AOI=0°) | LIDT激光損傷閾值 |
ARD800HT | ≤ ø 25.4 mm | 400+800 nm | R<0.2% | 4 J/cm² |
ARD1030 | ≤ ø 25.4 mm | 515+1030 nm | R<0.5% | 4 J/cm² |
ARD1030HT | ≤ ø 25.4 mm | 515+1030 nm | R<0.1% | 6 J/cm² |
ARD1064 | ≤ ø 25.4 mm | 532+1064 nm | R<0.5% | 4 J/cm² |
ARD1064HT | ≤ ø 25.4 mm | 532+1064 nm | R<0.1% | 6 J/cm² |
寬帶減反射膜
型號 | 基材尺寸 | 波長 | R, %(AOI=0°) | 激光損傷閾值 |
ARB300 | ≤ ø 25.4 mm | 210-400 nm | R<2% | 1 J/cm² |
ARB550 | ≤ ø 25.4 mm | 400-700 nm | R<0.9% | 2 J/cm² |
ARB625 | ≤ ø 25.4 mm | 350-900 nm | R<1.5% | 2 J/cm² |
ARB825 | ≤ ø 25.4 mm | 650-1100 nm | R<0.7% | 3 J/cm² |
ARB800 | ≤ ø 25.4 mm | 700-900 nm | R<0.5% | 3 J/cm² |
ARB800HT | ≤ ø 25.4 mm | 700-900 nm | R<0.1% | 5 J/cm² |
ARB1000HT | ≤ ø 25.4 mm | 900-1100 nm | R<0.1% | 5 J/cm² |
ARB1375 | ≤ ø 25.4 mm | 1050-1700 nm | R<0.7% | 2 J/cm² |
Laser Line AR coatings
鍍膜型號 | 波長 | 反射率, % | 損傷閾值 | ||
AOI=0° | AOI=45° | nm | AOI=0° | AOI=45° | Threshold |
3005-i0 | 3005-i45 | 193 | < 1.0 | <2.0 | 1 J/cm2 |
3007-i0 | 3007-i45 | 248 | < 0.8 | <1.5 | 1.5 J/cm2 |
3009-i0 | 3009-i45 | 266 | < 0.4 | <1.0 | 1.5 J/cm2 |
3011-i0 | 3011-i45 | 308 | <0.3 | <0.6 | 1.5 J/cm2 |
3014-i0 | 3014-i45 | 343 | <0.25 | <0.5 | 2 J/cm2 |
3015-i0 | 3015-i45 | 351-355 | < 0.25 | <0.5 | 2 J/cm2 |
3017-i0 | 3017-i45 | 400 | < 0.25 | <0.5 | 2 J/cm2 |
3021-i0 | 3021-i45 | 488-514 | < 0.3 | <0.5 | 2 J/cm2 |
3023-i0 | 3023-i45 | 515 | < 0.2 | <0.5 | 4 J/cm2 |
3025-i0 | 3025-i45 | 532 | < 0.2 | <0.5 | 4 J/cm2 |
3027-i0 | 3027-i45 | 633-650 | < 0.25 | <0.5 | 4 J/cm2 |
3031-i0 | 3031-i45 | 780 | < 0.2 | <0.5 | 5 J/cm2 |
3033-i0 | 3033-i45 | 800 | < 0.2 | <0.5 | 5 J/cm2 |
3035-i0 | 3035-i45 | 850 | < 0.2 | <0.5 | 5 J/cm2 |
3036-i0 | 3036-i45 | 1030 | < 0.2 | <0.5 | 5 J/cm2 |
3037-i0 | 3037-i45 | 1064 | < 0.2 | <0.5 | 5 J/cm2 |
3041-i0 | 3041-i45 | 1320 | <0.3 | <0.5 | 5 J/cm2 |
3045-i0 | 3045-i45 | 1547 | <0.5 | <1.0 | 4 J/cm2 |
請與我們聯(lián)系以獲取其他波長和AOI值。
雙波段增透膜
鍍膜型號 | 波長, nm | 反射率, % | 損傷閾值 | ||
AOI=0° | AOI=45° | AOI=0° | AOI=45° | Threshold | |
3106-i0 | 3106-i45 | 266 + 532 | <0.5 | <1.0 | 1.5 J/cm2 |
3110-i0 | 3110-i45 | 355 + 532 | <0.5 | <1.0 | 2 J/cm2 |
3114-i0 | 3114-i45 | 355 + 1064 | <0.5 | <1.0 | 2 J/cm2 |
3118-i0 | 3118-i45 | 400 + 800 | <0.5 | <1.0 | 3 J/cm2 |
3121-i0 | 3121-i45 |
| <0.5 | <1.0 | 4 J/cm2 |
3122-i0 | 3122-i45 | 532 + 1064 | <0.5 | <1.0 | 4 J/cm2 |
3126-i0 | 3126-i45 | 670 + 1064 | <0.5 | <1.0 | 4 J/cm2 |
3127-i0 | 3127-i45 | 808 + 1064 | <0.5 | <1.0 | 4 J/cm2 |
3130-i0 | 3130-i45 | 1064 +1320 | <0.5 | <1.0 | 4 J/cm2 |
3134-i0 | 3134-i45 | 1064 +1570 | <0.5 | <1.0 | 3 J/cm2 |
請與我們聯(lián)系以獲取其他波長和AOI值。
寬帶增透膜
寬帶抗反射BBAR鍍膜設計用于在特定波長范圍內(nèi)將組件的反射率降低至接近零。因此，光可以通過復雜的光學系統(tǒng)有效透射，而不會因眩光和散射而丟失。我們的增透膜旨在按正常入射使用，以這種方式使用時將實現(xiàn)較大的效率透射。
鍍膜型號 | 波長, nm | 反射率, % | 損傷閾值 | ||
AOI=0° | AOI=45° | AOI=0° | AOI=45° | Threshold | |
3205-i0 | 3205-i45 | 210-400 | <2 | <3 | 1.5 J/cm2 |
3207-i0 | 3207-i45 | 250-350 | <1.2 | <2.5 | 1.5 J/cm2 |
3209-i0 | 3209-i45 | 300-400 | <1.0 | <2.0 | 1.5 J/cm2 |
3211-i0 | 3211-i45 | 350-500 | <0.8 | <1.6 | 2.0 J/cm2 |
3213-i0 | 3213-i45 | 350-900 | <1.5 | <3.0 | 2.0 J/cm2 |
3215-i0 | 3215-i45 | 400-550 | <0.4 | <0.8 | 2.5 J/cm2 |
3217-i0 | 3217-i45 | 400-700 | <0.9 | <1.8 | 3.0 J/cm2 |
3219-i0 | 3219-i45 | 420-680 | <0.5 | <1.0 | 3.0 J/cm2 |
3221-i0 | 3221-i45 | 450-750 | <0.5 | <1.0 | 3.0 J/cm2 |
3223-i0 | 3223-i45 | 500-800 | <0.6 | <1.2 | 3.0 J/cm2 |
3224-i0 | 3224-i45 | 500-1000 | <1.5 | <3.0 | 3.0 J/cm2 |
3225-i0 | 3225-i45 | 600-900 | <0.5 | <1.0 | 3.0 J/cm2 |
3227-i0 | 3227-i45 | 750-900 | <0.5 | <1.0 | 3.0 J/cm2 |
3229-i0 | 3229-i45 | 800-1200 | <0.7 | <1.4 | 2.5 J/cm2 |
3231-i0 | 3231-i45 | 1000-1400 | <0.7 | <1.4 | 2.0 J/cm2 |
3232-i0 | 3232-i45 | 1050-1700 | <1 | <1.5 | 2.0 J/cm2 |
3233-i0 | 3233-i45 | 1300-1700 | <0.7 | <1.4 | 2.0 J/cm2 |
3235-i0 | 3235-i45 | 1500-2000 | <0.7 | <1.4 | 1.5 J/cm2 |
這些多層抗反射鍍膜設計用于將一個非常特定的波長的組件的反射率降低到接近零。因此，寶貴的激光能量可以通過復雜的光學系統(tǒng)有效透射，而不會因為眩光和散射而丟失。我們的抗反射（AR）鍍膜旨在按正常入射使用，以這種方式使用時將實現(xiàn)較大的效率透射。
EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學，工業(yè)，醫(yī)學，美學，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體，光機械，帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商，它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項業(yè)務，其基礎是在激光和光學領(lǐng)域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序，質(zhì)量控制評估以及對新技術(shù)的承諾，我們不斷改進并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001：2015認證。 必維檢驗集團（Bureau Veritas）頒發(fā)的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學，工業(yè)，醫(yī)學，美學，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體，光機械，帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商，它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項業(yè)務，其基礎是在激光和光學領(lǐng)域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序，質(zhì)量控制評估以及對新技術(shù)的承諾，我們不斷改進并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001：2015認證。 必維檢驗集團（Bureau Veritas）頒發(fā)的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
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